深夜!中国资产,集体爆发!科技巨头,飙涨
中国资产迎来强劲反弹!深夜
今夜美股市场表现亮眼,中国资产三大指数集体收涨,集体巨大型科技股表现强势,爆发飙涨其中苹果公司涨幅超过3%。科技然而,深夜存储芯片板块出现显著回调,中国资产闪迪股价大跌超11%,集体巨美光科技跌超7%,爆发飙涨希捷科技与西部数据跌幅均超8%,科技SK海力士跌超9%。深夜
中概股表现尤为抢眼,中国资产纳斯达克中国金龙指数涨幅超过3%。集体巨具体个股方面,爆发飙涨名创优品涨近10%,科技阿里巴巴、贝壳涨超7%;新氧、阿特斯太阳能、小鹏汽车、爱奇艺、哔哩哔哩等涨超5%;金山云、好未来、世纪互联、小马智行、唯品会等涨超3%。
值得注意的是,北京时间7月15日,阿斯麦(ASML)披露的第二季度业绩超出市场预期。在AI芯片强劲需求的推动下,阿斯麦上调了全年业绩展望,并指出客户正加速产能扩张计划。受此利好刺激,阿斯麦股价一度涨超3%,随后涨幅有所收窄。
美股走高,重磅经济数据出炉
当地时间周三,美国劳工统计局发布最新数据显示,美国6月生产者价格指数(PPI)同比上涨5.5%,环比下降0.3%;剔除食品和能源的核心PPI同比上涨4.7%,环比增长0.2%。上述数据均低于市场此前预期,直接导致市场对美联储7月政策会议加息的预期进一步降温。
纽约联储主席、美联储三号人物约翰·威廉姆斯(John Williams)表示,通胀可能已经见顶。他预测整体通胀率将在今年年底降至3.25%左右,随后继续向2%的目标靠拢,并最终在2028年实现该目标。威廉姆斯强调,将通胀持续恢复至2%的目标是美联储的首要任务,当前的货币政策立场非常适合实现这一目标。
受此提振,美股三大指数集体上涨。截至发稿:
* 道琼斯指数涨0.33%
* 纳斯达克指数涨0.78%
* 标普500指数涨0.41%
大型科技股全线走高,苹果公司涨超3%,亚马逊、微软涨超2%。中概股集体大涨,纳斯达克中国金龙指数涨超3%,其中阿里巴巴涨超7%,小鹏汽车、哔哩哔哩涨超5%。
Aehr Test Systems股价飙升
半导体器件测试与老化解决方案头部供应商Aehr Test Systems(Aehr)盘中一度大涨超50%。截至发稿,该公司股价涨幅仍超过40%。
此前,Aehr披露了截至2026年5月29日的2026财年第四财季及全年财务业绩:
* 营收:2026财年第四财季净营收1880万美元,上年同期为1410万美元。
* 利润:通用会计准则(GAAP)净利润140万美元,同比实现扭亏为盈。
* 订单:当季新增订单规模达6070万美元,创单季度历史新高。
展望2027财年(截至2027年6月25日),Aehr预计公司营收将达到1.3亿至1.5亿美元,同比增速高达160%至200%。
阿斯麦业绩大超预期
芯片已成为近一两年资本市场的绝对主角,而阿斯麦的业绩状况在很大程度上反映了芯片行业的整体繁荣度。作为芯片产业的景气“吹哨人”,阿斯麦的设备订单、业绩指引以及新技术落地情况,往往提前释放半导体行业周期冷暖的关键信号。
7月15日,全球光刻机龙头企业阿斯麦(ASML)发布的财报显示:
* 营收:第二季度营收为93.3亿欧元(约合109亿美元),超出分析师预期的88亿欧元。
* 净利润:二季度净利润为29.2亿欧元,高于市场预期的26.2亿欧元。
* 毛利率:当季毛利率为54%,同样高于市场预期的52%。
与此同时,阿斯麦大幅上调全年业绩指引:
* 净销售额:预计2026年净销售额为430亿至450亿欧元,此前预期为360亿至400亿欧元。
* 毛利率:将毛利率指引从51%—53%提升至54%—56%。
阿斯麦还宣布了激进的产能扩张计划。阿斯麦总裁兼首席执行官克里斯托夫·福凯(Christophe Fouquet)表示:“上半年我们的订单量极其强劲,基于这一势头,我们计划将2026年低数值孔径EUV约65台的产能,在2027年增加30%;同时我们正在研究在2028年再增加30%产能的可能性。同样,我们计划将2026年DUV浸没式光刻机约130台的产能,在2027年增加30%,并正在研究在2028年再增加30%。此外,我们正在持续大幅扩展我们的升级产品组合。”
阿斯麦是全球唯一能够生产极紫外光刻(EUV)设备的制造商,而这些精密设备正是制造英伟达AI训练芯片以及台积电、三星、英特尔等巨头先进制程芯片的必需品。随着微软、谷歌等科技巨头投入数千亿美元建设AI基础设施,芯片制造商正竞相扩大产能,直接拉动了对阿斯麦光刻机的需求。
阿斯麦与英特尔达成里程碑合作
当地时间7月15日,阿斯麦与英特尔联合宣布,英特尔已在其Intel 18A制程节点上,成功运用阿斯麦高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻系统,实现部分Intel Core Ultra Series 3(代号Panther Lake)处理器的量产交付。这标志着英特尔成为全球首家达成High NA EUV逻辑芯片高良率规模出货的半导体企业。
双方在联合声明中指出,Intel 18A部分关键工艺层已通过High NA EUV双重图形化认证,产品良率现阶段已稳定与现有NXE EUV平台水平持平。
High NA EUV作为阿斯麦当前最先进的光刻解决方案,具备更高的成像分辨率和更严苛的图案保真度,为先进制程的持续微缩奠定关键基础。英特尔晶圆制造业务执行副总裁兼总经理Naga Chandrasekaran表示:“该里程碑不仅印证了英特尔与阿斯麦在技术协同上的深度互信,更充分展示了高数值孔径EUV在量产环境中规模化集成的可行性与可靠性。”
据华泰证券测算,2028年全球半导体制造企业资本开支总额有望达3417亿美元,较2025年的1681亿美元增长103.3%。资本开支的结构性攀升正加速向设备端传导,预计至2028年,全球前道设备(WFE)市场规模将同步增长约108%,达到2414亿美元。光刻设备作为晶圆制造的核心制程环节,约占WFE市场总额的25%,阿斯麦凭借其在光刻领域的垄断性地位,有望率先且深度受益于本轮长周期扩产浪潮。
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